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基于棱镜耦合 M-line 测量原理,采用干式耦合方案,无需耦合液,集成 He-Ne
激光光源、偏振控制系统、高精度角度扫描机构、光电探测单元与自研分析软件,可完成块体材料折射率、单层薄膜折射率与厚度、波导有效折射率、TE/TM
偏振模式一体化检测,完整留存角度-光强原始耦合曲线,实现测量可视化与数据全追溯,为光学材料、功能薄膜、平面集成光波导的科研研发、工艺验证提供可靠的测试解决方案。
一、核心测量能力
- 块体折射率 n:适用于透明或低吸收光学玻璃、晶体及其他块体材料。
- 单层薄膜 n / d:在满足模式与模型条件时,联合分析薄膜折射率与厚度。
- 有效折射率 Neff:根据导模耦合位置计算模式有效折射率。
- TE / TM 模式:支持偏振切换与模式对比分析。
- 自动角度扫描:完成扫描、信号采集、特征识别和结果计算。
- 干式机械耦合:无需耦合液,样品装夹与日常测试更便捷。
- 原始曲线保留:完整保存 Angle–Voltage / M-line 数据与识别结果。
- 标定与配置管理:支持标准样品标定、棱镜参数配置及测量状态管理。
二、产品应用
| 光学玻璃与晶体 |
K9 /
BK7、N-BK7、熔融石英、石英玻璃、高硼硅玻璃、冕牌玻璃、火石玻璃、蓝宝石、YAG、GGG、LiNbO₃、LiTaO₃、CaF₂、MgF₂、ZnS、ZnSe
等透明或低吸收块体材料。 |
| 可表征参数:折射率 n、不同偏振条件下的光学响应与材料一致性对比。 |
| 光学薄膜与功能薄膜 |
SiO₂、Si₃N₄、AlN、AlScN、Al₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅、HfO₂、MgF₂、ZrO₂、ZnO、ITO、AZO、FTO、PMMA、光刻胶、树脂及其他透明或弱吸收单层介质薄膜。
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| 可表征参数:薄膜折射率 n、膜厚 d、有效折射率 Neff 与 TE/TM 偏振相关参数。 |
| 平面光波导与集成光子 |
玻璃、聚合物、SiO₂、Si₃N₄、AlN、AlScN、LiNbO₃、TiO₂ 等平面波导及介质波导结构。 |
| 可表征参数:Neff、导模位置、模式阶数、TE/TM 模式、波导层折射率与膜厚分析。 |
三、技术参数
| 1、测量原理 |
棱镜耦合 / M-line 测量; |
| 2、标准工作波长 |
632.8 nm(He-Ne); |
| 3、光源 |
He-Ne 激光器; |
| 4、偏振方式 |
TE/TM 双偏振切换; |
| 5、扫描方式 |
自动连续角度扫描; |
| 6、探测方式 |
光电探测; |
| 7、块体折射率测量 |
支持; |
| 8、单层薄膜折射率、厚度联合分析 |
支持; |
| 9、有效折射率 Neff 计算 |
支持; |
| 10、折射率测量精度 |
±0.001; |
| 11、折射率重复性 |
≤0.0005; |
| 12、薄膜膜厚测量范围 |
0.5 µm ~ 150 µm; |
| 13、薄膜分析能力 |
支持单层薄膜 n / d 联合分析 |
| 14、数据输出 |
测量结果保存、原始数据导出 |
| 15、软件平台 |
自主研发测量软件 |
四、软件系统
自主研发智能测量软件,集设备控制、数据采集、自动识别、参数计算与结果管理于一体,可实时显示测量曲线和关键参数,自动完成特征识别与结果分析,并支持历史数据保存、查询与导出,便于进行结果对比、数据追溯及后续分析,提高整体测量效率与使用便捷性。
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